，当它需要“搬家”时，工程师必须将其拆解成250个独立板条箱，动用7架波音747货机联袂运输，而且抵达目的地后，还需250名工程师耗时半年重新组装。
此次央视央视曝光的全球最先进光刻机，是由荷兰半导体设备大厂 ASML 耗时近十年打造，而且更是被堪称为芯片制造界的 “超级巨兽”。
它的核心价值在于数值孔径（NA）的跃升，例如更大镜头开口捕获更多光线，使分辨率飙升至上一代设备的1.7倍。
而这一突破，也成功让芯片晶体管密度再度飞跃，更是为人工智能、超级计算和5G通信注入了强劲动力。
尤其是High - NA EUV 光刻机是 ASML 极紫外光设备的新一代版本，其“NA”代表“数值孔径”，与传统光刻机相比，它的镜头开口更大，能捕捉更多光线，从而描绘芯片电路的分辨率更高。
通过更大的透镜孔径，它实现了更高的分辨率，可以把原子级别的电路图直接“印”到芯片上，做到传统设备做不到的极致微缩。
如果把传统 EUV 光刻机比作是用普通镜子对着微雕刻画，那High - NA EUV就像在显微镜下精确雕刻每一个原子路径，尤其是为了避免光线被空气吸收，整个光刻过程还必须在真空中完成。
目前，全球仅售出五台 High - NA EUV 光刻机，分别被英特尔和台积电等芯片巨头抢走，三星还在排队等待。
在2023年底，英特尔就抢先将全球首台High - NA设备运往美国俄勒冈工厂，并在2024年实现投产，而且根据英特尔披露的数据，这台机器帮助他们在短时间内生产出3万片晶圆，设备可靠性是上代的两倍。
他们宣布，High - NA 光刻机帮助其芯片生产周期缩短 60%，这意味着在未来 AI、存储芯片等领域，英特尔将大大加速迭代速度。
但这台价值 4 亿美元的设备，不仅仅是一台高科技机器，更是全球科技竞争的焦点，虽然 ASML 是荷兰公司，但High - NA EUV 光刻机的制造背后是全球顶尖制造业的集体杰作。
例如美国负责提供激光光源系统，其技术门槛极高，而日本生产超高精度的镜头组件，误差极小，甚至就连德国负责打造反射镜，每一块都经过严格的高温和高压测试，精度极高，还有上千家配套企业提供从螺丝钉到控制芯片等各种支撑，任何一个环节都至关重要。
正是这样一台凝聚了全球顶尖技术的设备，却并非有钱就能买到，目前，High - NA EUV光刻机被严格限制购买名额和筛选客户，美国在其中起着关键作用。
由于其核心技术掌握在美国人手里，EUV设备早已被列入出口管制名单，在这种情况下，中国仍无法获得EUV设备，仅能采购低阶DUV机型。
因为外界人士就分析，美国试图通过这种手段，限制中国在高端芯片制造领域的发展，维护其在全球半导体产业的主导地位。
不过对国外的技术封锁和限制，中国在光刻机领域并没有停下前进的脚步，更是通过自身的努力，在近些年来也是不断传出好消息。
上海微电子装备的光刻机已经能够实现90纳米的光刻工艺，并且在一些特定领域，如功率半导体、模拟芯片等方面，已经实现了量产应用，而这一进步虽然与国际顶尖水平相比还有差距，但已经是一个了不起的突破。
哪怕是在光刻胶等关键耗材领域，国产企业也在奋起直追，例如晶瑞电材成功研发出7纳米制程用光刻胶，这一突破意味着中国在高端光刻材料方面也在缩小与国际先进水平的差距。
而且在2024年2月，上海微电子装备公司就交付了首台2.5D/3D先进封装光刻机，这也为芯片制造设备国产化迈出关键一步。
甚至在在材料领域，恒邦公司也突破砷化物半导体技术，打破国外航天军工材料垄断，在2024年8月《新时期促进集成电路产业高质量发展的若干政策》出台，政策东风助推技术攻坚。
就连ASML高管也曾坦承：“阻碍中国发展是最错误的选择，他们总能找到突破路径。”
原文登载于央视网2025年05月27日关于[今日亚洲]造价超4亿美元！最先进光刻机公开的报道
原文登载于央广网2025年05月21日关于美国企图全球禁用中国先进计算芯片！商务部回应的报道
