纳米压印支持多种标准光刻工艺，例如真PG电子官网空，软，硬和接近曝光模式，并可选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻（NIL）。
该设备支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并可选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对准和纳米压印光刻（NIL）。
EVG610提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间仅为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求，因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。
纳米压印机主要应用：具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，支持尺寸从碎片到蕞大150毫米。附加功能：1) 键对准2) 红外对中3) 纳米压印光刻4) 微接触印刷纳米压印工艺结果：
