『公司动态』PG电子(中国官方网站)在半导体领域的最新动态,包括技术突破、产品发布及公司活动,见证我们如何推动行业发展。

苹果也嫌台积电2纳米太贵了?2纳米iPhone或将推迟至2026年

2025-03-09  

  可能会将2纳米芯片量产时间推迟12个月至2026年,今年大概率等不到搭载2纳米芯片的iPhone了。

  据业内人士透露,这是因为的2纳米制程产能有限,而测试需求却在不断增加,因此客户需要支付高价才能实现量产。

  据台湾经济日报报道,2纳米晶圆的良率约为60%,这意味着有40%晶圆是无法使用的,而每个晶圆的生产成本达到3万美元。

  这使得将继续使用3纳米制程芯片一年,留给台积电提高良率、扩大产能并改善价格的时间。因此,将于今年下半年发布的iPhone 17系列中或将采用3纳米的台积电N3P工艺,而非2纳米制程。

  台积电2纳米制程目前的产能为每月1万片晶圆。台积电正全力提升产能,通过设施投资,预计到2026年台积电2纳米制程产能将扩大至8万片晶圆。

  此外,台积电计划在美国亚利桑那州工厂扩大投资,将2纳米制程产能再增加约2万片,至每月14万片晶圆。

  同时,台积电还计划在此期间提升3纳米制程的产能,以巩固其在先进工艺领域的领导地位。

  目前,台积电正在与苹果、英伟达、PG平台 PG电子AMD等大公司进行2纳米制程测试。预计苹果将是首个利用台积电2纳米制程进行量产的企业,事实上iPhone和Mac的最新处理器均由台积电独家生产。

  不过,台积电的竞争对手三星电子也在全力提升2纳米制程良率,并推动现有客户日本PFN等公司进行测试,以争夺2纳米制程市场。

  有分析指出,由于半导体设计企业在3纳米以下的先进工艺中对台积电的依赖程度不断加深,而台积电产能不足,价格上涨。PG平台 PG电子随着时间的推移,设计企业对代工厂商多元化的意愿也在不断增强。

  而三星不仅需要提高目前2纳米制程的良率,还要将性能提升到客户所期望的水平。这可能是承受了数万亿韩元亏损的三星代工业务的最后机会。

上一篇:在美工厂开始生产4纳米芯片!
上一篇:光刻机行业分析!中国光刻机行业市场发展前景研究

猜你喜欢

  • 诺瞳MetaRX光刻镜片科技发布会 科技出新意抢先了解“新势

    诺瞳MetaRX光刻镜片科技发布会 科技出新意抢先了解“新势

      在AI科技创新的浪潮下,传统光学领域正经历着一场深刻的变革。光学镜片的厚度、清晰度与配戴的舒适体验被重新定义,视光科技正迈入全新阶段。  2月21日,一场关于未来视光科技的重大发布会将在上海新国际博览中心拉开序幕——  蔡博士在眼视光、光学设计、人工智能和临床医学转化领域拥有深厚的专业背景,累计申请所获专利超过60...
  • 史上最先进!ASML研发新一代Hyper NA EUV光刻机

    史上最先进!ASML研发新一代Hyper NA EUV光刻机

      全球最大半导体设备龙头ASML已着手研发下一代Hyper NA EUV先进光刻机,为未来十年的芯片产业做准备。  Jos Benschop表示,ASML及独家光学合作伙伴蔡司(Carl Zeiss)正在研究可在单次曝光中印刷出分辨率精细到5nm的EUV光刻机,可满足2035年之后的制程需求。  据悉,ASML目前出...
  • 光刻机整机自主可控是大势所趋

    光刻机整机自主可控是大势所趋

      目前国际形势下,科技产业自主可控重要性将更加凸显,而光刻机作为当下科技赛道亟待突破的细分方向,一旦出现重大技术突破,整个赛道有望获得市场关注,近期机构对光刻机行业也保持一定关注度,其基本面情况值得投资者关注和重视。  光刻工艺是集成电路制造的关键步骤,直接决定了集成电路制造的微细化水平,光刻工艺是对光刻胶进行曝光和...
  • 不靠EUV光刻机也能生产5nm:3nm也在进行中

    不靠EUV光刻机也能生产5nm:3nm也在进行中

      pg电子官方网站这种5nm采用了完全不一样的技术路线,避开了EUV光刻机的依赖,采用一种步进扫描光刻机,通过多重曝光实现5nm线宽。  最新报道指出,还是这家5nm品牌,最近已经打算推出3nm工艺制程技术的AP(应用处理器),目标是在2025年问世。  该芯片采用全环绕栅极(Gate-All-Around,GAA)...
微信

手机扫一扫添加微信