快科技2月26日消息，美光宣布，基于最新1纳米工艺的DDR5 DRAM内存芯片已经投产，性能、能效、密度等各项指标都大幅提升。 DRAM内存行业的节点工艺一直不标注具体数值，而是1a、1b、1c、
快科技2月26日消息，ASML Twinscan EXE:5000 EUV是当今世界上最先进的EUV极紫外光刻机，支持High-NA也就是高孔径，Intel去年抢先拿下了第一台，目前已经在俄勒冈州Fab D1晶圆厂安装部署了两台，
快科技1月24日消息，据国内媒体报道称，荷兰首相斯霍夫日前接受采访时表示，在荷兰光刻机巨头阿斯麦对华出口产品的问题上，荷兰政府希望自行决定实施什么样的政策。 “美国拜登政府就限制
美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）宣布开发出了一种名称为大孔径铥 （BAT） 激光器，旨在为极紫外 （EUV） 光刻技术的下一步发展奠定基础。 该激光器的效率号称是目前ASML EUV光刻机中使用
快科技1月6日消息，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）正在研究一种效率比传统CO2 EUV激光器高10倍的激光器，这将为下一代EUV光刻技术发展奠定基础。 据报道，LLNL正在研发的是一种拍瓦级（
快科技12月19日消息，据报道，日本初创晶圆代工厂Rapidus已成功接收其订购的首台ASML EUV光刻机，这是日本境内首次引入量产用EUV光刻设备。 Rapidus也成为日本首家拥有EUV光刻机的公司，由于EU
快科技11月15日消息，ASML在近日举办的2024年投资者日会议上，更新了长期战略以及全球市场和技术趋势分析，确认其到2030年的年收入将达到约440亿至600亿欧元(约合人民币3355亿元至4575亿元)，毛
8月7日消息，近日日本冲绳科学技术大学（OIST）的Tsumoru Shintake教授带领的研究团队提出了一项全新、大幅简化的面向极紫外（EUV）光刻机的双反射镜系统。 相比传统的至少需要六面反射镜的配置
快科技8月6日消息，在近日的财报电话会议上，Intel CEO宣布已成功接收全球第二台价值3.83亿美元的High NA EUV（极PG平台 PG电子紫外光刻机）。 High NA EUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备之一，其分
快科技7月17日消息，ASML(阿斯麦)今天公布了2024年第二季度财报，形势喜人：净销售额62.43亿欧元，环比增长18.0％；毛利率51.5％，较上季度提升0.5个百分点；净利润15.78亿欧元，环比增长28.9％
