当中国成功开发光刻机技术的那一天，全世界的供应商都要为之承受巨大的压力。
他们清楚地知道，中国已经斥资了3440亿元，正在全力冲刺，争取早日掌握光刻机技术。
而对此，日媒已经提前感到害怕和忧心忡忡了，因为中国可以利用自己高效率的工业生产方式，将高端芯片给打成白菜价。到时候，ASML将不再具有性价比，面临着被取代的风险。
该项目主要用于促进国家集成电路产业的发展，尤其会聚焦于那些目前正被美西方集团卡脖子的环节，比如：光刻机、芯片软设计软件等等。试图通过这样的项目，来加快推动我国半导体产业的自主可控与国产化替代。
由于该项目的注册资本多达3440亿元人民币，同时还有望撬动上亿民间资本，因此其自成立之初就备受外国媒体的关注。
而就在今年的7月16日，日本《日经亚洲》媒体便刊文表示，一旦中国在该项目取得成功的话，将可能撼动荷兰asml公司在全球光刻机市场的主导地位。
毕竟在过去，中国每突破一个技术成就，该技术产品很快就会变为白菜价，让生产这些技术产品的公司利润大为削减。
当时中国的半导体产业整体水平还相当不发达，处于一个比较稚嫩的初始发展阶段，美西方国家也还没有开始进行制裁和封锁。
所以这第1期的资金主要被用在了集成电路的制造上，很多钱都分给了各个产业链环节里的龙头企业。通过这样的方式来帮助这些龙头企业快速发展，并最终带动整个半导体产业的发展。
故而，本期投资的很多资金都被集中用在了pg电子官方网站一些短板明显的上游设备和材料上，希望借此让整个半导体产业链变得更加自主可控。
此时美西方集团对我国半导体产业的制裁和封锁，已经变得更加精准了，开始着重去制裁这个行业的一些高精尖技术。
也正因为如此，本次第3期的资金会集中用于重点扶持这些高精尖技术的发展，而光刻机很明显就是其中之一。
光刻机被视为是世界上最为精密的机器之一，也是当前全球半导体制造中最为关键的一个精密设备。
而在这一领域的龙头企业就是荷兰的asml公司，其目前是euv光刻机领域中的唯一供应商。
光刻机的分辨率在很大程度上，决定了所制造出来的芯片制程是否足够先进。荷兰asml公司所拥有的EUV光刻机，是当前世界上实现7nm以下先进制程的唯一设备。
也正因为如此，美西方国家方才利用自身在高端光刻机上的垄断地位，将其化身为一项卡脖子技术，来借此遏制中国半导体产业的发展。
比方说，我国目前只能勉强实现90nmDUV光刻机的量产，而28nm的光刻机则方才进入产线验证而已。
相比之下，美西方国家借助荷兰asml公司的EUV光刻机，能够实现7nm以下先进进程芯片的量产。
不过，虽然整体的差距依旧很大，但我国也确实在大基金三期巨额资金的投入下正在加快追赶中，并且在部分关键领域得以实现突破。
也就是说这三千多亿投入进去，从目前来看还是产生了一定水花的。但若是想要靠着三千多亿，就直接实现高端光刻机技术的突破，这有点不太实际。
鉴于在过去相当长时间内，美西方国家的光刻机技术也没有实现突破性的进展，故而我国可以放下心来，慢慢赶超，一点都不用着急。
只要时间足够长，且美西方国家坚持不卖给中国的话，那么中国实现弯道超车，相信只不过是一个时间问题而已。
还有现在需要用到7nm以下高端芯片的产品寥寥无几，只有在AI领域里用得相对比较普遍。
甚至说28nm以下制程的芯片，所能够应用的产品，也并不多。我们所常见的大多数电子产品，都是只需要使用28nm以上的芯片就可以。
这也就意味着，只要本次大基金三期资金的投入，能够帮助国内半导体产业实现28nm光刻机量产的话，就已经完全足够了。
单从数字上看，大基金三期所投入的三千多亿资金，确实是一笔很大的投入，足够中国整个半导体产业，未来几年去慢慢挥霍。
未来，我国想要真正掌控高端光刻机技术，光靠大基金三期投资是难以做到的，还要有四期、五期乃至更多的投资。
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